揭阳爱发科分子泵维修改造升级 潽拓光电

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通用的沉积技术有化学气相淀积（CVD）、蒸发和溅射PVD。一般来说，其中还要夹杂低温（≤500℃）退火工艺等热处理工艺，用以增进金属层和半导体之间的低电阻接触、消除内应力等。设备运行过程中需要高洁净的真空环境，一般采用以磁悬浮分子泵为主的无油真空系统。

刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。刻蚀的基本目标是在涂胶的硅片上正确地掩膜图形。现代化的干法刻蚀设备包括复杂的机械、电气和真空系统，配有自动化的刻蚀终点检测和控制装置。刻蚀应用工况复杂，清洁性差，充入特种气体种类繁多，需要特殊处理的干泵和磁悬浮分子泵。

离子注入设备：离子注入是指在真空环境下，当离子束射向固体材料时，受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来，并很终停留在固体材料中的现象。离子注入是半导体表面附近区域进行掺杂的主要技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。离子注入机是集成电路制造工序中的关键设备，需要高清洁的真空环境，以保证离子掺杂浓度和剂量的准确性。

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随着各应用领域技术要求的不断提高，在涡轮分子泵系列方面持续开发，拥有抽速介于10到超过3000升/秒的完整涡轮分子泵产品系列，具有很高的和灵活的安装方式，从而使得各类应用，比如分析仪器、半导体、光学/玻璃、冶金、泄漏检测、科研设施、灯具等行业，都能找到与之匹配的订制产品型号。

尤其是此次推出的涡轮分子泵，使用了技术，特别适用于对振动敏感的应用。该技术能更有效地测试涡轮分子泵转子的平衡性能，确保了在这一领域的技术优势，并且为该公司的下一步发展提供了技术前瞻。所有的生物分子泵都是自催化系统，通过利用其催化分解化学燃料所释放的能量来维持细胞的生命活动。迄今为止已经报道了一些人工分子泵，但它们都是以光为驱动力燃料，或需要连续添加试剂或改变电势来维持运行。

在此，作者报道了一种催化驱动的人工分子泵，在“燃料”的存在下，能连续地将冠醚大环化合物从溶液中“串”到分子轴上，且不需要的干预。只要有未反应完的“燃料”的存在，该过程就能一直进行。燃料全部消耗完后，冠醚会从不平衡的[4]轮烷上脱落，体系转变成很低能量的起始离散状态。该工作利用催化作用来驱动人工分子泵，在催化和分子机械层面开辟了新的研究方向。

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用技术加持的涡轮分子泵可以满足更为苛刻的工作环境要求，尤其是在需要更低振动和静音的应用中，该系列涡轮分子泵可以大大提升用户体验。采用这项技术的相关真空泵非常适合用于质谱分析、电子显微术、检漏仪和残余气体分析系统等对振动敏感的应用。以电子显微镜为例：由于高真空法兰的振动很强烈（~20nm），导致高倍率下的图像模糊不清；而集成了这款涡轮分子泵之后，振动变得更低（~5nm），使电子显微镜能够获得更高分辨率的图像。

电子显微镜的两幅图像对比：配备了涡轮分子泵（右）比未配备涡轮分子泵（左）时的图像要更清晰

高度可靠的新型涡轮分子泵

除了应用更先进的技术之外，也承袭了真空涡轮分子泵安全、耐用、抗老化、重量轻、体积小巧等一系列优点。

·在控温方面，涡轮分子泵配备集成传感器，爱发科分子泵维修改造升级，集成的转子温度测量功能可确保始终发挥很佳性能，保障其很高运行安全性。

·在轴承方面，的混合轴承由两部分组成：前级真空侧运用耐温高、转速高且寿命长的油润滑式陶瓷球轴承，而高真空侧则使用灵活、抗压强的永磁径向轴承。坚固耐用的轴承材料让系列涡轮分子泵具备更高可靠性。

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