¥ 3572.00 价格
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一、用途
在岩相标本和金相试样制备过程中,式样的磨光和抛光,是二项***的工序,通常是采用预磨机和抛光机两种设备来完成,为我国科技和工业发展的需要,当结合用户的各种不同的使用要求,我公司新设计制造成的MP-2型磨抛机试样设备的二道工序由一台设备来完成,在使用时只需选择不同的转速,就能完成各种试样的粗磨、细磨、湿磨及抛光等各道工序,该机的磨盘直径大于国内同类产品,可增加有效工作面的20%-30%,可适应不同材料的设备要求,并提高试样的磨抛质量和设备效率,是比较完善和理想的金相制样设备。
二、主要参数
型号:MP-2
砂纸直径:200mm
磨盘直径:220mm
抛盘直径:220mm
研磨盘转速:600转/分
抛光盘直径:800转/分
电源:380V 50Hz
外形尺寸:740*700*320mm
机器净重:55kg